坩  埚  炉

        本系列真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚，和不锈钢法兰或石英密封头组成的
    真空坩埚炉。工作温度区间室温至1700℃。该系列设备的控制系统国际领先，具有安全可靠，
    操作简单，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空等特点，广泛应用于高等院校，科
    研院所，工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝硅碳棒、硅钼棒为
    加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，、可控硅控制，控温精度高，炉膛采用氧
    化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，具有真空装置，该炉具有温场
    均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
        主要用途：高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物，退
    火或扩散半导体晶片，也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。